相对湿度对洁净工程产生的影响

　　洁净工程不仅要保证环境的洁净度，还要控制室内的温度和湿度。为了保证洁净工程的一定环境湿度，在规定范围内保持空气处理过程，必须承担这些成本。但是为什么要花那么多钱在洁净工程中控制相对湿度呢？道理很简单！因为相对湿度可以降低洁净室的整体性能，包括以下几个方面。

　　

　　1、菌群生长；与其他生物污染(霉菌、病毒、螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活跃繁殖。当相对湿度超过30%时，一些细菌可以生长。当相对湿度在40%到60%之间时，影响和呼吸道感染可以降低到相当低的水平。

　　

　　2、洁净工程师感觉室温舒适；相对湿度在40%到60%之间，也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会让人感到气闷，湿度低于30%会让人感到干燥、皮肤破裂、呼吸道不适和情绪不适。

　　

　　3、静电荷的出现；高湿度实际上减少了洁净工程和洁净室表面静电荷的积累——这是每个人都希望的结果。低湿度更适合电荷的积累，成为潜在的破坏性静电释放源。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散，但当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或未接地的表面上持续很长时间。相对湿度可以在35%到40%之间作为满意的折叠。半导体洁净工程和洁净室通常使用额外的控制装置来限制静电荷的积累。

　　

　　4、金属腐蚀；许多化学反应的速度，包括腐蚀过程，会随着相对湿度的增加而加快。所有暴露在洁净工程和洁净室周围空气中的表面都很快被至少一层单分子水覆盖。当这些表面由能与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以加速反应。幸运的是，一些金属，如铝，可以与水形成一层保护性氧化物，阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如，氧化铜不具有保护能力，因此在高湿度环境下，铜表面更容易被腐蚀。

　　　　

　　5、水蒸气凝结；在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成连接键，可以增加颗粒和硅表面的附着力。这种效——凯尔文浓缩—当相对湿度小于50%时，并不重要，但当相对湿度约为70%时，它就成为颗粒之间附着力的主要力量。

　　

　　6、光刻的退化；到目前为止，光刻胶的敏感性是半导体洁净工程和洁净室急需适当控制的。由于光刻胶对相对湿度极其敏感，对相对湿度控制范围的要求相当严格。

　　

　　干燥季节，在洁净工程中，静电和粉尘的危害直接导致洁净工程产品的各种不良后果。目前，通过使用工业加湿器来提高空气湿度，即确保产品的出厂质量，人们感到舒适，静电消失。因此，洁净加湿已经成为净化工程中环境控制的必然要求。